China ha desarrollado en secreto un prototipo funcional de una máquina de litografía EUV, esencial para la fabricación de semiconductores avanzados. Este proyecto, conocido como el "Manhattan Project" de China, fue llevado a cabo por ingenieros de ASML que trabajaron bajo alias en Shenzhen. Aunque el prototipo puede generar luz EUV, aún no ha producido chips funcionales, con un objetivo realista de producción estimado para 2030. Esta iniciativa forma parte del esfuerzo de China por lograr la autosuficiencia en semiconductores y desafía las restricciones impuestas por EE. UU. sobre tecnología crítica. La revelación del prototipo podría alterar el equilibrio tecnológico global y plantea nuevos desafíos en la competencia entre Washington y Beijing.
Recientemente, se ha informado que China ha desarrollado en secreto un prototipo funcional de una máquina de litografía ultravioleta extrema (EUV), un equipo crucial para la producción de semiconductores avanzados. Este proyecto, considerado como el «Manhattan Project» chino, fue llevado a cabo mediante la ingeniería inversa por ingenieros de ASML que trabajaron bajo seudónimos en una instalación segura en Shenzhen.
El prototipo es capaz de generar luz EUV, aunque aún no ha producido chips funcionales. Se estima que el objetivo realista para la producción de chips se sitúa alrededor del año 2030. Esta iniciativa forma parte de un esfuerzo más amplio de seis años por lograr la autosuficiencia en semiconductores, coordinado por Huawei y dirigido a reducir la influencia estadounidense en sus cadenas de suministro.
En un laboratorio de alta seguridad en Shenzhen, científicos chinos han alcanzado un hito tecnológico que las potencias occidentales han intentado evitar durante años. Según informes exclusivos, este prototipo representa la culminación de un esfuerzo estatal encubierto que desafía las estrategias occidentales diseñadas para contener el ascenso tecnológico de China mediante controles de exportación sobre maquinaria crítica.
La litografía EUV se encuentra en la cúspide de la tecnología industrial moderna. Estas máquinas, cuyo costo puede superar los 250 millones de dólares cada una, utilizan haces de luz ultravioleta extrema para grabar circuitos en obleas de silicio con una precisión milimétrica. Esta capacidad es fundamental para producir chips potentes que impulsan sistemas de inteligencia artificial y electrónica avanzada.
El avance reportado no es fruto del azar, sino el resultado de un programa altamente clasificado y mandatado por el estado. Fuentes indican que el proyecto se basa en una extensa ingeniería inversa de la tecnología de ASML, liderada por ingenieros reclutados, muchos de ellos veteranos nacidos en China. Para mantener la confidencialidad, estos profesionales trabajan bajo seudónimos dentro del recinto seguro y están aislados entre sí.
Huawei desempeña un papel central en la coordinación del proyecto, gestionando una vasta red de empresas e institutos estatales. La cultura operativa refleja una estricta seguridad nacional: los empleados en equipos sensibles suelen dormir en el lugar y tienen comunicación restringida. Este entorno intensamente compartimentado subraya la prioridad estratégica del Partido Comunista Chino respecto a la independencia semiconductor.
A pesar del éxito simbólico y técnico que representa contar con un prototipo generador de luz, analistas advierten sobre los obstáculos significativos que persisten. Se describe a esta máquina como mucho más grande y rudimentaria que los sistemas refinados de ASML. Uno de los mayores retos radica en replicar las ópticas precisas necesarias para una producción confiable y a gran escala.
Este desarrollo tiene profundas implicaciones para la seguridad global y la industria tecnológica. Históricamente, el control sobre tecnologías fundamentales como la litografía EUV ha permitido a Estados Unidos y sus aliados mantener una ventaja generacional en computación y hardware militar. El impulso incesante de China hacia capacidades autóctonas amenaza con erosionar esa ventaja.
La revelación del prototipo secreto marca un momento crucial en el enfrentamiento tecnológico entre Washington y Pekín. Pone en evidencia las limitaciones del régimen actual de control exportador frente a un adversario decidido y bien financiado que emplea un enfoque integral nacional. A medida que el mundo observa cómo este proyecto puede evolucionar desde un concepto experimental hacia una industria competitiva e independiente en fabricación de chips, queda claro que el camino hacia la autosuficiencia semiconductor está siendo pavimentado.
Fuentes para este artículo incluyen:
| Cifra | Descripción |
|---|---|
| $250 millones | Costo estimado de una máquina de litografía EUV. |
| 2030 | Fecha estimada para la producción de chips funcionales por parte de China. |
| 2019 | Año en que se lanzó la estrategia nacional para atraer talento global en semiconductores. |
| 2028 | Objetivo oficial para la producción de chips funcionales. |